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1.个人简介

纪爱玲，2006年在中国科学院物理研究所获博士学位，2006-2008年在香港城市大学从事博士后研究，其中赴德国哥廷根大学进行合作研究。2008年7月加入中国科学院物理研究所表面物理国家重点实验室，任助理研究员；2009年7月被聘为副研究员。曾经参与多项国家自然科学基金项目和国家973项目的研究，已在Scientific Reports 、APL、JAP等杂志上发表论文30多篇。

2.研究领域

功能薄膜材料的生长、表征及其物性研究。主要是采用化学气相沉(CVD)、物理气相沉积(PVD)等合成各种功能薄膜，并研究其电学、光学等其它重要的物理性质。

3. 代表性文章：

1.       N. P. Lu，A. L. Ji, Z. X. Cao, Nearly Constant Electrical Resistance over Large Temperature Range in Cu₃NM_x (M = Cu, Ag, Au) Compounds, Scientific Reports 3, 3090 (2013).（通讯作者）

2.       N. P. Lu, L. G. Liao, W. B. Zhang, T. X. Yu, A.L. Ji , Z.X. Cao, Growth of nano- and microcrystalline silicon thin films at low temperature by pulsed electron depositon, J. Cryst. Growth 375, 67 (2013). （通讯作者）

3.       A. L. Ji, N. P. Lu, L. Gao, W. B. Zhang, L. G. Liao, and Z. X. Cao, Electrical properties and thermal stability of Pd-doped copper nitride films, J. Appl. Phys. 113, 043705 (2013).

4.       R. Huang, Y. Du, A. L. Ji, Z. X. Cao, Time-resolved photoluminescence from Si-in-SiNx/Si-in-SiC quantum well-dot structures, Optical Materials 35, 2414 (2013). （通讯作者）

5.       A. L. Ji, L. Gao, Y. Du, Z. X. Cao, Growth of Stoichiometric Cu₃N and Ternary Cu₃NM_x (M=metals) Crystalline Thin Films and Characterization of Their Peculiar Physical Properties, Phys. Status Solidi A 207, 2769 (2010).

6.       A. L. Ji, Y. Du, C. R. Li，Z. X. Cao, Formation of symmetrical relief features in nanocrystalline copper nitride thin films, JVST B 25 (1), 208-211(2007).

7.       A. L. Ji, C. R. Li, Z. X. Cao, Ternary Cu₃NPd_x exhibiting invariant electrical resistivity over 200 K, Appl. Phys. Lett. 89, 252120 (2006).