ECWR
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     电子回旋共振波等离子体(Electron-Cyclotron-Wave-Resonance Plasma,缩写为ECWR-plasma)技术是由德国真空协会主席H. Oechsner教授发展而成的。
     ECWR—等离子体是一种用途广泛,操作简便的低温低压等离子体。它工作气压低(小于0.1Pa),离子温度几百K,电子温度在105K量级。ECWR-等离子体工作在约25高斯的磁场下,激发源频率在射频范围,本设备选取在27.12MHz(27.12MHz或13.6MHz皆可)。本ECWR-等离子体加载射频偏压,射频频率为60MHz。通过改变射频输入功率,离子沉积能量可以从几十到几百eV方便调节。ECWR—等离子体既可以用作离子源研究离子-固体相互作用,进行材料的改性,本身也可用来实现新材料的物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。等离子体束轰击绝缘体表面,可有效避免荷电效应, 特别适于纳米晶宽带材料生长机理的研究。

      ECWR—等离子体的应用领域可分为:
1. 作为后离化(Post-ionization)电子源用于二次中性粒子质谱(SNMS)仪。
2. 作为离子源用于SIMS+XPS的复合分析技术。
3. 大面积物理气相沉积玻璃涂层(保温,导电玻璃,透明玻璃,德国Schott公司)。
4. 化学气相沉积(德国BMW汽车公司项目,CH2+CH4等离子体在塑料上加防渗漏涂层。由于该等离子体的低温特性,塑料可直接插入等离子体内而不会熔化)。
5. 用于材料改性研究,离子刻蚀等。

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